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供应电镀及金属酸洗, 水解冶金; 电池,电子业等 CH-90

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    杜笙 螯合离子交换树脂 Tulsion CH-90



去除+2价金属离子的选择性螯合离子交换树脂

SELECTIVE ION EXCHANGE RESIN FOR REMOVAL OF BIVALENT METALS .

TULSION CH-90是一款具有iminodiacetic官能基及非常耐久型的巨孔状的选择性螯合型离子交换树脂。

TULSION CH-90适用于制程或废水中从一价金属离子中选择性的去除二价金属离子的应用。二价金属离子可以很容易的与单价金属离子分离,如Ca+2等离子。

此二价金属离子的去除应用, 如电镀及金属酸洗, 水解冶金; 电池制造业的铅去除, 电子业等应用。



基本性质/ TYPICAL CHARACTERISTICS



型式/ Type : 弱酸型阳离子交换树脂/Weak acid cation exchange resin

结构/ Matrix structure : 巨孔状交叉键结聚苯乙烯/ 

Macroporous crosslinked polystyrene

官能基/ Functional group : Iminodiacetic

物理型式/ Physical form : 含水球状/ Moist spherical beads

离子型式/ Ionic as shipped : 钠/ Sodium

粒径分布/ Screen size USS(wet) : 16 to 50

粒径大小/ Particle size : 0.3 to 1.2 mm

总交换容量/Total Exc. Capacity : 1.8 meq/ml (H+)

膨胀系数/ Swelling (approx.) : H+ → Na+ 20%

含水份/ Moisture : 45-50%

pH 作范围/ Suitable pH range : 0 to 14

溶解率/Solubility : 不溶解于任何溶剂/ Insoluble in common solvents

逆洗沉降密度/Backwash settled density : 0.72 to 0.79 g/ml



建议操作条件/ OPERATING CONDITIONS



*大操作温度/ Max .Operating Temperature : 70oC

流速/ Service flow : 10 – 30 BV/hr

逆洗膨胀空间/Backwash expansio  ace : 50 to 70%

逆洗流速/ Backwash expansion flow : 8-10 BV/hr

再生/ Regeneration

酸浓度/ Concentration of acid : 5 - 8% 

流速/ Flow rate : 3 – 4 BV/hr

再生酸药剂量/ Regeneration quantity: 150-200 g/lit of HCl

:200-250g/lit of H2SO4

慢洗流速/ Rinse flow rate : 3 – 4 BV/hr

若需要转成Na离子/ Conversion to sodium form if required

浓度/ Concentration : 2-4%

流速/ Flow : 4 BV/hr

盐药量/ NaOH quantity : 50-150 g/lit

慢洗流速/ Rinse flow rate : 3 – 4 BV/hr



应用附注/ APPLICATION NOTE



金属离子的选择性是依据进流液的pH 而决定在某些的pH 范围内, 交换容量会很严重的下降.



*有效的除铜pH : 3 - 4

Effective pH for copper removal

*有效的除镍pH : 3 - 5

Effective pH for nickel removal

*有效的除铁pH : 2 - 4

Effective pH for iron removal

*有效的除铅pH : 2 以上

Effective pH for lead removal

*有效的除锰pH : 4 以上

Effective pH for manganese

选择性的顺序如下: 内容来自中华水网 www.chndk.com 

Order of selectivity is as follows

Cu > Pb > Ni > Zn > Co > Cd > Fe+3 > Mn > Mg > Ca >> Na

再生药剂的选择可用盐酸或硫。对于除铜应用, 建议用硫酸! 建议用硷NaOH 再生将树脂转换成Na 型, 并将pH 变成原来的进水条件。

若仍有技术上的资料需求, 请与我们联络:

 
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